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Independientemente del sector, transformamos exigentes requisitos de movimiento en soluciones optimizadas y específicas para cada cliente, con el equilibrio adecuado entre rendimiento y coste.

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Ejemplo de una plataforma de vacío real para la industria de los semiconductores
Ejemplo de una plataforma de vacío real para la industria de los semiconductores

La siguiente tabla resume las características de rendimiento típicas de nuestros sistemas de movimiento de precisión personalizados.

Dependiendo de la aplicación específica, estos sistemas pueden diseñarse para cumplir exigentes requisitos en cuanto a dimensiones, precisión, comportamiento dinámico y compatibilidad ambiental, factores clave para aplicaciones de alto rendimiento, salas blancas y vacío.

Características clave de rendimiento (rangos típicos)

ParámetroCapacidad típica
DimensionesDesde unos pocos milímetros hasta varios metros
Precisión de posicionamiento< 0,5 µm en 500 mm de recorrido
Repetibilidad< 50 nm mediante compensación específica de la aplicación
Tiempo de movimiento y estabilizaciónDecenas de milisegundos para desplazamientos de decenas de milímetros, con estabilización < 10 nm
JitterHasta el nivel de picómetros
LimpiezaCompatible con entornos de sala blanca ISO Clase 1
Compatibilidad con vacíoHasta 10⁻⁷ mbar
Perturbaciones magnéticasPerturbaciones no repetibles ≤ 1 µT

 - El rendimiento real depende de la configuración del sistema y de los requisitos de la aplicación.

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